[发明专利]等离子体处理装置在审
| 申请号： | 202110735397.9 | 申请日： | 2018-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN113594018A | 公开（公告）日： | 2021-11-02 |
| 发明（设计）人： | 永关一也;茂山和基;松田俊也;古谷直一;大下辰郎 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置。目的在于减少处理室的压力的偏差。提供一种排气装置，该排气装置具有：排气机构，其具有第1叶片构件和第2叶片构件，该第1叶片构件和该第2叶片构件在处理容器的排气空间中同轴地配置于比被处理体靠外周侧的位置，且至少一者能够旋转，该处理容器在真空气氛的处理空间中对被处理体实施处理；以及排气部，其与所述排气空间连通，在所述排气机构的下游侧进行所述处理容器内的排气。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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