[发明专利]一种新型曝光机有效
| 申请号： | 202110751162.9 | 申请日： | 2021-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN113448180B | 公开（公告）日： | 2022-04-01 |
| 发明（设计）人： | 陈铭;李金水;朱世敏 | 申请（专利权）人： | 深圳市华鼎星科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 黄勇;任志龙 |
| 地址： | 518100 广东省深圳市光明区凤凰街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请涉及曝光设备技术领域，尤其是涉及一种新型曝光机，包括沿光刻胶传送方向依次设置的放卷装置、曝光装置以及收卷装置，曝光装置包括机架、固设于机架顶部的光刻板、固设于光刻板下方的曝光机构以及盖板机构，盖板机构包括盖设于光刻板顶面的框架、软性压片组件、抽真空组件以及升降组件，软性压片组件封盖于框架内侧，以令光刻板、框架以及软性压片组件可共同形成一抽真空腔体，抽真空组件固设于机架上且与抽真空腔体相连通，升降组件固设于机架上且用于驱动框架沿竖向升降。本申请能够将光刻胶与光刻板之间的残留空气压出，以提高光刻胶的平整度，从而提高光刻胶的曝光效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 曝光 | ||
【主权项】：
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