[发明专利]半导体装置、影像感测器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202110756491.2 申请日: 2021-07-05
公开(公告)号: CN113823649A 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 李岳川;黄仕贤;陈嘉展;陈步芳 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供用于有效吸集杂质的半导体装置及其形成方法。在一些实施例中,半导体装置包括:基板;像素区,设置于基板中;隔离区,设置于基板中且邻近像素区内,其中隔离区包含晶种区,晶种区包含第一半导体材料;以及异质层,位于晶种区上,其异质层包含第二半导体材料,第二半导体材料具有与第一半导体材料不同的晶格常数。
搜索关键词: 半导体 装置 影像 感测器 及其 形成 方法
【主权项】:
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