[发明专利]基于FDSOI的背偏压控制的芯片结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 202110769926.7 申请日: 2021-07-08
公开(公告)号: CN113257779B 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 高峰;叶甜春;罗军;赵杰 申请(专利权)人: 广东省大湾区集成电路与系统应用研究院;澳芯集成电路技术(广东)有限公司
主分类号: H01L23/498 分类号: H01L23/498;H01L23/528;H01L25/07;H01L21/60;H01L21/50;H01L21/768
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 曹慧萍
地址: 510535 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉半导体技术领域,公开了基于FDSOI的背偏压控制的芯片结构及其制造方法,包括第一晶圆和第二晶圆,第一晶圆上设有第一芯片,第一芯片的最上层的金属连线层设有M个第一键合Pad;第二晶圆上设有第二芯片,第二芯片的最上层的金属连线层设有M个第二键合Pad;第一芯片第二芯片键合,当第一芯片与第二芯片键合后,M个第一键合Pad与M个第二键合Pad一一电性连接,本发明的芯片结构在实际使用时由于第一芯片和第二芯片通过键合的方式连接,而不是在平铺在底板上后通过金属线路连接,减少了第一芯片和第二芯片集成时所需要的面积,另外本发明通过在第二芯片的背面制作FDSOI晶体管的背压控制电路,从而大大地节省了芯片面积。
搜索关键词: 基于 fdsoi 偏压 控制 芯片 结构 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东省大湾区集成电路与系统应用研究院;澳芯集成电路技术(广东)有限公司,未经广东省大湾区集成电路与系统应用研究院;澳芯集成电路技术(广东)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110769926.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top