[发明专利]一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构在审
| 申请号： | 202110780854.6 | 申请日： | 2021-07-09 |
| 公开（公告）号： | CN113675068A | 公开（公告）日： | 2021-11-19 |
| 发明（设计）人： | 彭青珍 | 申请（专利权）人： | 彭青珍 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 050501 河北省石家庄*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种传感器单晶硅刻蚀装置的送气机构，包括底座、容器筒和旋转电机，所述底座的凹陷处底壁安装有容器筒，所述底座的底壁安装有旋转电机，所述容器筒的顶部安装有两组双向电机，所述底座的顶部安装有送气箱，所述送气箱的正面安装有输送结构，所述送气箱的顶部安装有水泵，所述水泵的输出端安装有软管。本发明通过安装的水泵可往输送结构内部导入冷水，可降低其内部的原有温度，而后辅助以送气风机，可使容器筒迅速降温，风力传感器与送气风机、报警器之间电性连接，可对装置进行运行监测，送气筒可进行拆卸检修，其底部均匀设置有多组槽孔，其槽孔从上至下直径逐渐放大，可在一定程度上保证输气均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 传感器 单晶硅 刻蚀 装置 送气 机构 | ||
【主权项】：
暂无信息
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