[发明专利]一种高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110805609.6 申请日: 2021-07-16
公开(公告)号: CN113429210B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 赵喆;李鸣;王政浩 申请(专利权)人: 嘉兴饶稷科技有限公司
主分类号: C04B35/565 分类号: C04B35/565;C04B35/626;B33Y70/10
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 燕宏伟
地址: 314100 浙江省嘉兴市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料及其制备方法,所述高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料由碳化硅粉体,碳化硼粉体,丙烯酸低聚物,活性稀释剂,光引发剂,助引发剂,以及助剂组成。所述碳化硅粉体的重量百分比含量为66%~72%,所述碳化硼粉体的重量百分比含量为2%~2.2%,所述丙烯酸低聚物的重量百分比含量为2.1~5.7%,所述活性稀释剂的重量百分比含量为16.8%~24.9%,所述光引发剂的重量百分比含量为1.29%~1.71%。所述光引发剂由裂解型自由基光引发剂,夺氢型自由基光引发剂,以及阳离子光引发剂组成。本发明提供的高光敏活性的碳化硅陶瓷浆料可在385nm波长的UV LED冷光源下以最低200mw/cm2的曝光功率下实现表层与深层的固化。本发明还提供了一种碳化硅陶瓷材料的制备方法。
搜索关键词: 一种 光敏 活性 碳化硅 陶瓷 浆料 及其 制备 方法
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