[发明专利]清洁装置及半导体设备在审
| 申请号： | 202110819512.0 | 申请日： | 2021-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN115639727A | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 李佳佳 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;B08B3/02;B08B1/00 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 杜娟娟 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洁装置及半导体设备，清洁装置用于对光栅尺进行清洁处理，所述清洁装置包括：喷淋装置，包括喷淋管道及喷淋物供给装置，所述喷淋物供给装置与所述喷淋管道相连接，用于向所述喷淋管道内提供喷淋物；所述喷淋管道上设有与所述喷淋管道内部相连通的喷口，所述喷口朝向所述光栅尺，用于向所述光栅尺喷淋所述喷淋物；刷头清洁装置，位于所述光栅尺的正下方，对所述光栅尺进行清洁处理。通过上述喷淋装置和刷头清洁装置的双重清洁效果，可以有效清洁光栅尺上的漏液和灰尘，提高光栅尺清洁效率，避免曝光机台宕机。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 装置 半导体设备 | ||
【主权项】：
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