[发明专利]一种原子层沉积设备的远程控制系统及方法在审
| 申请号： | 202110821570.7 | 申请日： | 2021-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN113549903A | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 毛娃;陈焰;夏洋;冯家恒;明帅强;刘振强 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/455 |
| 代理公司： | 北京众达德权知识产权代理有限公司 11570 | 代理人： | 王春艳 |
| 地址： | 650032 云南省*** | 国省代码： | 云南;53 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请公开一种原子层沉积设备的远程控制系统及方法，系统包括：原子层沉积设备、远程控制器和服务器；原子层沉积设备包括无线通信模块、处理器模块和设备主体，所述处理器模块与所述无线通信模块连接；所述设备主体包括温控模块、气体流量控制模块和原子层沉积腔室，所述设备主体与所述处理器模块连接。可以避免操作人员频繁往返实验室或者工厂的厂房，能够实现对于原子层沉积设备的远程控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原子 沉积 设备 远程 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
