[发明专利]一种低介电常数高熵薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202110846717.8 申请日: 2021-07-26
公开(公告)号: CN113718330B 公开(公告)日: 2022-05-20
发明(设计)人: 娄晓杰;乔文婧 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: C30B23/02 分类号: C30B23/02;C30B29/22;C23C14/08;C23C14/35
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李红霖
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明涉及薄膜材料领域,具体涉及一种低介电常数高熵薄膜及其制备方法,本发明低介电常数高熵薄膜包括:SrTiO3基片、置于SrTiO3基片表面的La0.7Sr0.3MnO3缓冲层以及设置于La0.7Sr0.3MnO3缓冲层表面的Ba(Zr0.2Sn0.2Ti0.2Hf0.2Me0.2)O3薄膜,Me为过渡族金属元素离子。本发明低介电常数高熵薄膜具有比较致密的结构,并具有低介电常数和低介电损耗的特征。
搜索关键词: 一种 介电常数 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
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