[发明专利]一种化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法有效
| 申请号： | 202110847470.1 | 申请日： | 2021-07-26 |
| 公开（公告）号： | CN113388836B | 公开（公告）日： | 2023-05-16 |
| 发明（设计）人： | 张青科;宋振纶;杨丽景;胡方勤;姜建军;郑必长 | 申请（专利权）人： | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
| 主分类号： | C23F1/28 | 分类号： | C23F1/28;C23G1/19 |
| 代理公司： | 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256 | 代理人： | 王锋 |
| 地址： | 315201 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种化学蚀刻减薄FeNi合金箔带的方法，包括：对FeNi合金薄板进行预处理，之后以蚀刻液均匀喷淋所述FeNi合金薄板，以将所述FeNi合金薄板蚀刻减薄形成FeNi合金箔带，其后对所述FeNi合金箔带进行后处理；其中，所述蚀刻液包括FeCl |
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| 搜索关键词： | 一种 化学 蚀刻 feni 金箔 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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