[发明专利]反射镜，成像光学单元，以及投射曝光设备在审
| 申请号： | 202110849038.6 | 申请日： | 2016-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN113703286A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | M.施瓦布 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及投射光刻的成像光学单元(7)，其具有多个反射镜(M1至M8)，用于将成像光(3)从物场(4)引导到像场(8)中。物场(4)跨越于两个物场坐标(x,y)，法线坐标(z)垂直于这两个物场坐标。成像光(3)在第一成像光平面(xz |
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| 搜索关键词： | 反射 成像 光学 单元 以及 投射 曝光 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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