[发明专利]阵列基板及其制备方法在审
| 申请号： | 202110849120.9 | 申请日： | 2021-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN113629149A | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 罗传宝 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人： | 杨艇要 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请提供一种阵列基板及其制备方法。阵列基板包括：基板。吸光层，所述吸光层设置于所述基板的一侧。第一金属层，所述第一金属层设置于所述吸光层远离所述基板的一侧，或所述第一金属层设置于所述基板远离所述吸光层的一侧。第二金属层，所述第二金属层设置于所述第一金属层远离所述基板的一侧。所述第二金属层包括栅极、源极、漏极和绑定部。所述绑定部与所述第一金属层连接。本申请提供的阵列基板，具有较高的光稳定性且制备工艺简单。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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