[发明专利]一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置有效
| 申请号： | 202110863732.3 | 申请日： | 2021-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN113524001B | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 杨黎;李思佳;郭胜惠;冯曙光;高冀芸;胡途 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B41/00;B24B41/02;B24B41/06;B24B49/00;C01B32/26 |
| 代理公司： | 北京东方盛凡知识产权代理有限公司 11562 | 代理人： | 李瑞雨 |
| 地址： | 650000 云南省昆明市*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | 本发明提供一种对沉积金刚石膜的基底预处理时的控制压力装置，包括固定机构、升降机构和调压机构；固定机构包括第一立柱，第一立柱顶部侧壁固接有第一固定块，第一固定块下方设置有第二固定块，第二固定块与第一立柱滑接；第二固定块上固接有若干调平部，若干调平部呈周向等距分布；第一立柱内固接有第一电机，第一电机与第二固定块传动连接；升降机构包括固接在第一立柱顶端的第二立柱，第二立柱远离第一固定块的一侧滑接有移动架，调压机构固接在移动架上；移动架上固接有第二电机，第二电机与第二立柱传动连接。使基底在与抛光机的摩擦过程中受到稳定均匀而持续的作用力，基底的每部分受到均匀处理大大提高了基底的预处理成功率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 沉积 金刚石 基底 预处理 控制 压力 装置 | ||
【主权项】：
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