[发明专利]一种微透镜阵列结构的制作方法在审
| 申请号： | 202110867524.0 | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN113703081A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 李其凡;史晓华 | 申请（专利权）人： | 苏州光舵微纳科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00 |
| 代理公司： | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人： | 杨敏 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市常熟经*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及了一种微透镜阵列结构的制作方法，包括：步骤A：在基底的表面均匀涂覆一层光刻胶，形成光刻胶掩膜层；步骤B：对光刻胶掩膜层进行曝光、显影，形成光刻掩膜图形结构；步骤C：对光刻掩膜图形结构进行热熔，使得圆柱形光刻胶柱形成球面型的微透镜形态结构、并继续高温固化，在基底的表面形成光刻胶微透镜阵列图形；步骤D：将光刻胶微透镜阵列图形用于压印模板，通过纳米压印工艺将微透镜阵列图形转移至目标基板上的压印胶上、并固化压印胶，使得目标基板与压印胶形成非接触型微透镜阵列结构。通过上述设置，可解决目前微透镜阵列结构制作工艺复杂、成本高、精度不可控、重复性较差带来的不利于量产化的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透镜 阵列 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
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