[发明专利]一种光学转移装置及多层微纳器件加工方法在审
申请号: | 202110872123.4 | 申请日: | 2021-07-30 |
公开(公告)号: | CN113534432A | 公开(公告)日: | 2021-10-22 |
发明(设计)人: | 史刚;吴超;陈千雪;张立源 | 申请(专利权)人: | 南方科技大学 |
主分类号: | G02B21/34 | 分类号: | G02B21/34;G02B21/26;G02B21/30 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 张英凤 |
地址: | 518055 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及微纳加工技术领域,公开了一种光学转移装置及多层微纳器件加工方法,光学转移装置包括第一调节机构、第二调节机构和显微成像系统。第一调节机构中,第一位移平台能够对第一载物台进行可控、可量化的移动。第二调节机构中,第二位移平台能够对第二载物台进行可控、可量化的移动。因此,在第一调节机构和第二调节机构的作用下,第一样品和第二样品能够相互对齐,并且,在驱使第一载物台和第二载物台移动的过程中,通过显微成像系统实时显示第一样品的形貌,从而可视化地实现微区贴装,克服了当前转移装置参数无法量化和精细控制的缺点,减少人为因素的影响,从而提高效率和质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 转移 装置 多层 器件 加工 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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