[发明专利]一种耐高压调光膜及其制造方法在审
申请号: | 202110881510.4 | 申请日: | 2021-08-02 |
公开(公告)号: | CN113568208A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
发明(设计)人: | 舒杨;朱龙山 | 申请(专利权)人: | 重庆御光新材料股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333;G02F1/1334 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 404500 *** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明公开了一种耐高压调光膜及其制造方法,所述耐高压调光膜包括第一透明导电层、液晶层、第二透明导电层,所述液晶层设置在第一透明导电层、第二透明导电层之间,且液晶层两层分别与第一透明导电层、第二透明导电层相接,所述第一透明导电层、第二透明导电层与液晶层相接的一面均设置绝缘镀层。本发明通过在两个透明导电层上增加镀层,该镀层能提高电场之间的绝缘性,通过相关实验证实,硅镀层弥补了液晶分子层的绝缘性不是很好的缺陷,提高调光膜的耐压值5‑10倍。镀层能提高电场之间的绝缘性,避免出现某一薄弱点或工艺灰尘点被电场击穿的情况。 | ||
搜索关键词: | 一种 高压 调光 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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