[发明专利]掩膜版、阵列基板的制作方法、阵列基板

摘要

本发明公开一种掩膜版、阵列基板的制作方法、阵列基板，阵列基板上涂布负性光阻剂，形成色阻单元，采用掩膜版对色阻单元进行光刻处理，由于掩膜版上形成有相邻设置的第一曝光区和第二曝光区，由于在相同区域面积上，第一曝光区上的透光量大于第二曝光区上的透光量，使得色阻单元对应第一曝光区接收到的光强大于色阻单元对应第二曝光区接收到的光强，由于对色阻单元进行光刻处理过程所用的光强度越低，光刻处理后得到的子像素对应光强度越低处的厚度越薄，从而使得光刻处理后得到的子像素对应第二曝光区的厚度减薄，使得相邻子像素的边缘区域交叠时，交叠部分搭接至数据线产生的牛角高度减小，提高了液晶显示器的品质。