[发明专利]一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法有效
| 申请号： | 202110898386.2 | 申请日： | 2021-08-05 |
| 公开（公告）号： | CN113416393B | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 段旻;刘勤学;姚孝平;孔云飞;马强;杨彩怡 | 申请（专利权）人： | 常州浩阳新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | C08L67/02 | 分类号： | C08L67/02;C08L63/10;C08L51/08;C08G63/183;C08G63/86;C08G63/87;C08J3/22;C08J5/18 |
| 代理公司： | 南京勤行知识产权代理事务所(普通合伙) 32397 | 代理人： | 陈烨 |
| 地址： | 213200 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及聚酯母粒技术领域，尤其是一种高透低雾光学基膜用聚酯母料的合成方法，包括以下步骤：1)将100份对苯二甲酸、130份乙二醇和0.001‑0.002份醋酸钠配制成浆料，然后转移至酯化反应釜中进行酯化反应，然后加入0.02‑0.05份乙醇锑和对甲苯磺酸的复合催化剂、10‑20份第三单体依次进行预缩聚反应和终缩聚反应，在终缩聚反应阶段加入0.001‑0.002份磷酸三甲酯，2)终缩聚结束降温过程中加入光固化单体和光引发剂，最后将终聚物卸到冷却池，切片得到聚酯母料；本发明中的聚酯母料在后续制备光学基膜的时候，可以通过辐照步骤提高光学基膜的硬度，从而可以降低抗粘连剂的添加，从而降低光学基膜的折射率，得到高透光低雾度的光学基膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高透低雾 光学 基膜用 聚酯 合成 方法 | ||
【主权项】：
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