[发明专利]一种真空渗铬用容器、系统及方法

摘要

本发明公开了一种真空渗铬用容器、系统及方法，所述容器包括真空箱，所述真空箱包括箱体及箱盖，所述真空箱上还设置有用于对其内部进行抽真空的气路，所述箱盖包括第一密封盖及第二密封盖；所述第一密封盖可拆卸连接于所述箱体的开口端；所述第二密封盖设置在箱体的内侧，第二密封盖通过锥面支撑于箱体内；所述锥面为沿着箱体周向方向延伸的环状，第二密封盖作为箱体内的分层隔板；锥面靠近第一密封盖一侧的尺寸大于另一侧的尺寸；第一密封盖与第二密封盖之间形成腔隙，所述气路的入口端与所述腔隙对接。所述系统及方法均以所述容器作为基础或为所述容器的具体运用。采用本方案提出的技术方案，可有效提保证渗铬过程的安全性。