[发明专利]一种直接成像曝光装置及其内层对位方法在审
| 申请号： | 202110907334.7 | 申请日： | 2021-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN113568284A | 公开（公告）日： | 2021-10-29 |
| 发明（设计）人： | 闫小猛;储怀宁 | 申请（专利权）人： | 深圳市鑫浩自动化技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518104 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种直接成像曝光装置及其内层对位方法，包括大理石基、激光成像镜头和设备本体，所述设备本体的内部设置有工作腔，所述工作腔上设置有大理石基，所述大理石基的上方设置有YZ移动台等组成，所述YZ移动台等组成的上方设置有吸盘台面。本发明所述的一种直接成像曝光装置及其内层对位方法，属于成像曝光装置技术领域，吸盘台面上的PCB板B面获取靶点与激光成像镜头的精确信息，即可精准地曝出B面图形；光窗外边缘留有窄缝，用于吸附PCB板边缘，防止翘板，吸盘做有四个规格大小的分区，满足于不同尺寸的PCB板，靶点由曝光图形内部添加后统一曝光在同一面上，弱化翻板的影响，提升内层对位精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 直接 成像 曝光 装置 及其 内层 对位 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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