[发明专利]半导体封装结构及其形成方法在审
申请号: | 202110919264.7 | 申请日: | 2021-08-11 |
公开(公告)号: | CN113851431A | 公开(公告)日: | 2021-12-28 |
发明(设计)人: | 叶昶麟;黄耀霆 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/498;H01L21/48;H01L21/56 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体封装结构及其形成方法。半导体封装结构包括:基板;中介层,电连接于基板的上表面,中介层包括分别设置有I/O的第一I/O面和第二I/O面,第一I/O面与第二I/O面不平行,中介层内包括分别与第一I/O面处的I/O和第二I/O面处的I/O连接的迹线和通孔,其中,第一I/O面处的I/O或第二I/O面处的I/O中的一个是通孔切面,在俯视图中,通孔切面处的I/O是多个非同心圆通孔堆叠的一部分。 | ||
搜索关键词: | 半导体 封装 结构 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
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