[发明专利]一种消除CMP加工中心边缘差异的设备在审

专利信息
申请号: 202110927234.0 申请日: 2021-08-13
公开(公告)号: CN113601389A 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 许子俊;马曾增;陈伟 申请(专利权)人: 江苏中科晶元信息材料有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B47/12;B24B57/02;B24B27/00
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 李宏伟
地址: 215611 江苏省苏州市张家港市塘桥镇(江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种消除CMP加工中心边缘差异的设备,包括上表面设有载物组件的机架,还包括载物组件上面设置的旋转组件,其特征在于:所述载物组件包括转盘及转盘轴心下设置的驱动装置,所述转盘上表面活动嵌设有动力载物台,所述动力载物台上表面设有用于放置晶片的载物槽;所述载物组件的一侧设有与机架上表面固定的支撑架;所述旋转组件穿设在支撑架上,所述旋转组件包括输出端连接有电机的动力缸,还包括所述电机输出端安装的旋转出液盘,所述旋转出液盘的底部包覆有抛光布。该消除CMP加工中心边缘差异的设备,有效解决了化学试剂的均匀性、压力的均匀性,以及加强排除CPM加工过程物料的能力,消除加工边缘差异,提升产品均匀品质。
搜索关键词: 一种 消除 cmp 加工 中心 边缘 差异 设备
【主权项】:
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