[发明专利]涂覆显影设备在审
| 申请号： | 202110963138.1 | 申请日： | 2021-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN115903404A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 李康植;吴均;王晖;程成;郑敦宇;孙永成;王文军;邵乾;王俊;王德云;金泳律 | 申请（专利权）人： | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛美半导体设备韩国有限公司;清芯科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30;G03F7/16;H01L21/677 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 骆希聪 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区中国*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种涂覆显影设备，包括依次连接的设备前端模块、工艺站以及接口站，工艺站包括涂覆单元、显影单元、至少一个横向移动的移动传输部以及至少一个侧面机械手，当基板在涂覆单元完成处理后，由至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中，并由移动传输部传送至接口站；当基板在显影单元完成处理后，由至少一个侧面机械手将基板搬入移动传输部中，并由移动传输部传送至设备前端模块。在本发明中，配置移动传输部和侧面机械手，负责在设备前端模块和接口站之间传送在涂覆或显影单元完成处理之后的基板，能够降低涂覆或显影单元内部的机械手运行负荷，从而降低机械手运行效率对涂覆显影设备产出率的影响，进而提高涂覆显影设备的产出率。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 设备 | ||
【主权项】：
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