[发明专利]具有附加式金属栅极和具有偶极层的栅极电介质的全环绕栅极集成电路结构的制造

摘要

描述了具有附加式金属栅极和具有偶极层的栅极电介质的全环绕栅极集成电路结构。例如，一种集成电路结构包括：水平纳米线的第一垂直布置以及水平纳米线的第二垂直布置。第一栅极堆叠处于水平纳米线的第一垂直布置之上，第一栅极堆叠具有在第一栅极电介质之上的P型导电层，第一栅极电介质包括在第一偶极材料层上的高k电介质层。第二栅极堆叠处于水平纳米线的第二垂直布置之上，第二栅极堆叠具有在第二栅极电介质之上的N型导电层，第二栅极电介质包括在第二偶极材料层上的高k电介质层。