[发明专利]等离子体处理装置和等离子体处理方法在审
| 申请号： | 202110967503.6 | 申请日： | 2021-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN114121589A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 藤原直树;大秦充敬;竹内贵广 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/3065 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供使用3个电功率脉冲信号来提高处理性能的等离子体处理装置和等离子体处理方法，包括：生成至少3个功率水平的生成源RF脉冲信号的生成源RF生成部；第1及第2偏置RF生成部，其生成频率比生成源RF脉冲信号低的至少2个功率水平的第1及第2偏置RF脉冲信号；生成使生成源RF生成部、第1及第2偏置RF生成部同步的同步信号的同步信号生成部；第1匹配电路，其与生成源RF生成部和天线连接，使生成源RF脉冲信号从生成源RF生成部经由第1匹配电路被供给到天线；第2匹配电路，其与第1及第2偏置RF生成部和基片支承部连接，使第1及第2偏置RF脉冲信号从第1及第2偏置RF生成部经由第2匹配电路被供给到基片支承部。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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