[发明专利]一种制备高密度锡掺杂氧化铟坯体的工艺在审
| 申请号： | 202110979193.X | 申请日： | 2021-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN113699492A | 公开（公告）日： | 2021-11-26 |
| 发明（设计）人： | 蔡精敏 | 申请（专利权）人： | 蔡精敏 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 570000 海*** | 国省代码： | 海南;46 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及锡掺杂氧化铟坯体制备技术领域，且公开了一种制备高密度锡掺杂氧化铟坯体的工艺，包括以下步骤：将气化ITO粉体加入预混液中，并且将与气化ITO粉体等质量的球磨球一起加入预混液中，制得浆料；向浆料中加入引发剂和催化剂，搅拌均匀后迅速注模，把模具置于水浴锅中，有机单体发生凝胶化反应，生成三维网状结构，将气化ITO粉体包裹其中，形成由高分子网络定型的坯体；经过脱模干燥烧结，制得ITO靶材；本发明将均匀分散在悬浮液中的ITO颗粒用高分子有机物包裹并使其原位固定，获得了极高密度均匀坯体，并且坯体经过烧结之后得到的靶材相对密度在97.9％以上，从而解决了现有技术所制备的ITO靶材坯体的相对密度很少超过70％的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 高密度 掺杂 氧化 铟坯体 工艺 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于蔡精敏，未经蔡精敏许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110979193.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
