[发明专利]套刻误差的补偿方法、补偿装置、光刻机及存储介质在审

专利信息
申请号: 202110996234.6 申请日: 2021-08-27
公开(公告)号: CN113777893A 公开(公告)日: 2021-12-10
发明(设计)人: 曾健忠 申请(专利权)人: 深圳天狼芯半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 赵智博
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请适用于半导体技术领域,提供了一种套刻误差的补偿方法、补偿装置、光刻机及存储介质。该补偿方法包括:从N个对准记号中,确定M个待插值记号组,待插值记号组包括至少两个对准记号;获取N个对准记号的套刻误差;对于第i个待插值记号组,第i个待插值记号组为M个待插值记号组中的任一待插值记号组,根据第i个待插值记号组中的所有对准记号的套刻误差,确定第i个待插值记号组对应的插值点的套刻误差;根据N个对准记号的套刻误差和M个待插值记号组对应的插值点的套刻误差,对晶圆进行误差补偿。通过可本申请可在不增加晶圆上对准记号的基础上,得到较多的套刻误差,基于这些套刻误差,对晶圆进行误差补偿,能够提高套刻精度。
搜索关键词: 误差 补偿 方法 装置 光刻 存储 介质
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳天狼芯半导体有限公司,未经深圳天狼芯半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202110996234.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top