[发明专利]一种石英透镜的移除方法在审
申请号: | 202111005048.8 | 申请日: | 2021-08-30 |
公开(公告)号: | CN113718233A | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 朱祝司;龚荟卓 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | C23C16/48 | 分类号: | C23C16/48 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 周耀君 |
地址: | 201315*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种石英透镜的移除方法,所述石英透镜设置于一反应腔内,所述反应腔内还设置有光源,所述光源设置于所述石英透镜上方,其特征在于,包括:将所述光源取出所述反应腔;提供保护罩,所述保护罩为一端开口的腔体,所述保护罩的顶面具有贯穿的通孔,将所述保护罩盖在所述石英透镜上,所述通孔露出所述石英透镜的部分顶面;以及,利用真空吸盘吸附所述石英透镜露出的顶面,以将所述石英透镜移出所述反应腔,避免所述石英透镜在移动过程中与外界设备磕碰造成损伤。 | ||
搜索关键词: | 一种 石英 透镜 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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