[发明专利]掩模组件以及用于制造掩模组件的方法在审

专利信息
申请号: 202111010804.6 申请日: 2021-08-31
公开(公告)号: CN114107891A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 文英慜;文敏浩;宋昇勇;任星淳 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;宋志强
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了掩模组件以及用于制造掩模组件的方法。该掩模组件包括:其中限定有第一开口的掩模框架,掩模框架包括第一开口延伸通过的前表面;以及沉积掩模,附接到掩模框架的前表面,并且多个第二开口被限定为通过沉积掩模。掩模框架包括其中前表面沿着重力方向延伸的附接定向,沉积掩模包括附接到在附接定向中的掩模框架的前表面并且多个第二开口被限定为通过的初始掩模,并且具有沿着重力方向延伸的前表面的掩模框架的附接定向沿着重力方向将掩模框架的第一开口设置为对应于初始掩模的多个第二开口中的全部。
搜索关键词: 模组 以及 用于 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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