[发明专利]一种纳米多孔双层薄膜材料及其制备方法在审
| 申请号： | 202111066615.0 | 申请日： | 2021-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN113913737A | 公开（公告）日： | 2022-01-11 |
| 发明（设计）人： | 乔冠军;张相召;刘相;刘军林;刘桂武;吕全江 | 申请（专利权）人： | 江苏大学 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/35;C23C14/58;C23F1/26;C23F1/44;F24S70/20;F24S70/25 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 212013 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明涉及光吸收层，特指一种纳米NiCr/TiAlN双层薄膜及其制备方法。首先利用磁控溅射技术在Al |
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| 搜索关键词： | 一种 纳米 多孔 双层 薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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