[发明专利]半导体电路及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202111072832.0 申请日: 2021-09-14
公开(公告)号: CN115692405A 公开(公告)日: 2023-02-03
发明(设计)人: 周凯;马亚琪;李维;金永亮;陈村村 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司;台积电(中国)有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 朱亦林
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 本公开涉及半导体电路及其制造方法。一种(修整跟随器电路的跟随器电压的)电路包括拉低电路和抗噪电路。拉低电路连接在跟随器节点和第一参考电压之间。拉低电路响应第二参考电压。跟随器节点能连接到跟随器电路。抗噪电路连接在跟随器节点和第二参考电压之间。抗噪电路被配置为保护跟随器节点处的跟随器电压不因电容耦合到跟随器节点的噪声电压而失真。
搜索关键词: 半导体 电路 及其 制造 方法
【主权项】:
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