[发明专利]低温真空精馏三氟化硼分离高丰度同位素硼11三氟化硼的装置和方法在审

专利信息
申请号: 202111080860.7 申请日: 2021-09-15
公开(公告)号: CN113750797A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 李成军;袁福龙;刘广才;余威 申请(专利权)人: 黑龙江豪运药业有限公司
主分类号: B01D59/04 分类号: B01D59/04;C01B35/06
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司 23211 代理人: 韩丽娜
地址: 150000 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明提出一种低温真空精馏三氟化硼分离高丰度同位素硼11三氟化硼的装置和方法,该系统的低温同位素分离塔的顶部安装塔顶冷凝器,塔顶冷凝器还与真空系统和去废气处理系统依次连接,塔顶冷凝器与低温制冷系统连接,低温同位素分离塔的底部安装塔底再沸器,低温同位素分离塔的进料口安装自动控制进料系统,顶部产品出料口依次安装自动控制塔顶产品采出系统和产品硼11三氟化硼储存系统,底部副产品出料口安装自动控制塔底副产物采出系统。解决了现有技术的工艺过程复杂,生产成本极高的问题。本发明利用塔顶负压,将较三氟化硼更低的轻组分杂质N2、O2、Ar从三氟化硼液体中解析出来,获得的硼11三氟化硼纯度更高。
搜索关键词: 低温 真空 精馏 氟化 分离 高丰度 同位素 11 装置 方法
【主权项】:
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