[发明专利]掩模制造方法在审
| 申请号： | 202111086659.X | 申请日： | 2021-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN114481018A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 李炳一;金奉辰;李永浩 | 申请（专利权）人： | 悟劳茂材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 姜虎;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及掩模制造方法。本发明的掩模制造方法用于制造OLED像素形成用掩模，该方法包括以下步骤：(a)准备掩模金属膜；(b)在掩模金属膜的至少第一面上形成图案化的第一绝缘部；(c)在掩模金属膜的第一面上通过第一绝缘部图案间的空间形成副掩模图案；(d)通过夹设隔板绝缘部来粘合形成有副掩模图案的掩模金属膜的第一面与支撑基板；(e)使用与掩模金属膜的第一面相对的第二面上形成的第二绝缘部图案间的空间，在掩模金属膜上形成主掩模图案，从而制造掩模。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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