[发明专利]一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法在审
| 申请号： | 202111109074.5 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN113654866A | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | 王肖义;李瑞佼;段亚伟 | 申请（专利权）人： | 河北光兴半导体技术有限公司;东旭科技集团有限公司;东旭光电科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N1/28 | 分类号： | G01N1/28;G01N1/32;G01N23/225;G01N23/227 |
| 代理公司： | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人： | 耿超 |
| 地址： | 050035 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | 本公开涉及一种含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的制备及缺陷测试方法，该方法包括对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的切割、对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品切割面的研磨抛光和腐蚀以及对含有微米级一维铂铑缺陷的薄玻璃样品的缺陷测试；该方法通过倾斜切割、用腐蚀剂腐蚀切割面，使得接近切割面的缺陷部位能够暴露，缺陷更容易被发现，进而更容易被测试。另外，该方法利用能谱仪快速分析，并结合电子探针精确的定性分析，可以高效、准确、快捷的确定缺陷成分。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 含有 微米 级一维铂铑 缺陷 玻璃 样品 制备 测试 方法 | ||
【主权项】：
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