[发明专利]一种具有高解析度和优异附着力的光致抗蚀剂在审
| 申请号： | 202111109386.6 | 申请日： | 2021-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN113741147A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 刘罡 | 申请（专利权）人： | 深圳惠美亚科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/027 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市龙岗区坪*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种光致抗试剂，该光致抗蚀剂作为感光干膜的核心层，包含：50‑70重量份的碱溶性树脂、15‑40重量份光聚合化合物、0.2‑8.0重量份的光引发剂、0.1‑2.0重量份其他助剂。上述光致抗蚀剂制成感光干膜后，显影后具有高解析度、优异的附着力及柔韧性、退膜快等优点，有利于提升下游电子产品的良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 具有 解析度 优异 附着力 光致抗蚀剂 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳惠美亚科技有限公司，未经深圳惠美亚科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111109386.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
