[发明专利]一种曝光控制方法、装置、设备以及计算机存储介质有效
申请号: | 202111141160.4 | 申请日: | 2021-09-28 |
公开(公告)号: | CN113572973B | 公开(公告)日: | 2021-12-17 |
发明(设计)人: | 田照银;吴昊;刘德珩;明幼林;陈海飞 | 申请(专利权)人: | 武汉市聚芯微电子有限责任公司 |
主分类号: | H04N5/235 | 分类号: | H04N5/235 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人: | 蒋雅洁;张颖玲 |
地址: | 430270 湖北省武汉市东*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本申请实施例公开了一种曝光控制方法、装置、设备以及计算机存储介质,该方法包括:获取当前图像帧对应的相位均值图像、幅度图像和深度图像;确定相位均值图像中的第一目标块和幅度图像中的第二目标块;对第一目标块进行像素阈值范围之外的像素个数统计,得到统计像素数;在统计像素数未超过第一阈值的情况下,从深度图像中获取第二目标块对应的深度块,并计算深度块的深度均值;根据积分时间与深度之间的对应关系,确定深度均值对应的目标积分时间,并根据目标积分时间确定下一个图像帧的曝光参数。这样,可以将积分时间调整至最优,从而提高图像的精准度,同时提高图像的成像质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 曝光 控制 方法 装置 设备 以及 计算机 存储 介质 | ||
【主权项】:
暂无信息
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