[发明专利]一种浸渍型钨铼锇三元混合基扩散阴极的制备方法有效

专利信息
申请号: 202111167986.8 申请日: 2021-09-29
公开(公告)号: CN113936981B 公开(公告)日: 2023-06-23
发明(设计)人: 刘伟;胡志凯;杨韵斐;李世磊;王金淑;周帆;高俊研;刘乐奇 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01J9/04 分类号: H01J9/04;H01J1/142;H01J1/146
代理公司: 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人: 张立改
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种浸渍型钨铼锇三元混合基扩散阴极的制备方法,涉及微波电真空器件制造技术。在具有铼包覆钨结构的微米级颗粒粉体的基础上添加纳米级锇粉,三元混合粉体经过烧结后,会形成铼锇合金包覆钨颗粒的特殊结构粉体。在阴极基体烧结和阴极浸渍过程中内部钨会向外部扩散,在阴极表面形成稳定的钨铼锇三元合金膜层,由于铼和锇的存在能够提高阴极的电子发射密度。
搜索关键词: 一种 浸渍 型钨铼锇 三元 混合 扩散 阴极 制备 方法
【主权项】:
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