[发明专利]一种高分子材料镀膜工艺在审
| 申请号： | 202111194214.3 | 申请日： | 2021-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN114000104A | 公开（公告）日： | 2022-02-01 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 深圳市恒鼎新材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/10;C23C14/08;C08J7/06 |
| 代理公司： | 北京沁优知识产权代理有限公司 11684 | 代理人： | 金慧玲 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种高分子材料镀膜工艺，包括镀氮氧化硅膜层步骤，在待加工件表面镀氮氧化硅膜层作为后续镀膜层的打底层，镀氮氧化硅膜层步骤包括如下子步骤：A1、向镀膜腔室中通入氩气和氮气的混合气体，氩气：氮气为1:8‑3:1；A2、调整真空度为0.1‑1.33Pa；A3、打开硅靶电源对待加工件进行镀膜，镀膜的膜层厚度为2nm‑200nm，此膜层作为氮氧化硅膜层与待加工件高分子材料层的界面结合层。本发明用氮氧化硅膜层作为打底层，不会偏黄，膜层小于20nm则几乎无任何色相，不会改变待加工件的颜色，膜层厚度大于20nm，则打底层本身就可以作为光学膜系设计中的高折射率膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高分子材料 镀膜 工艺 | ||
【主权项】：
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