[发明专利]一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置在审
| 申请号： | 202111212219.4 | 申请日： | 2021-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN113814818A | 公开（公告）日： | 2021-12-21 |
| 发明（设计）人： | 安祥波;余伦;高七一;陈智明;王琪;辜勇;叶小俊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | B24B5/48 | 分类号： | B24B5/48;B24B27/00;B24B41/06;B24B55/00;B24B41/04 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 江亚平 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种针对高精度内孔的立式精密研磨装置，属于精密机械制造技术领域，所要解决的技术问题是克服常规卧式研磨技术的不足，设计一种立式的、柔性连接的、可自动跟踪研磨工具微量摆动的、圆周去量均匀的精密研磨装置，包括动力源、万向联轴节、研磨工具、柔性平台，所述动力源提供精密研磨的旋转运动及上下往复移动，所述万向联轴节提供柔性连接，并传递旋转运动与上下往复移动，所述研磨工具实现内孔的高精度研磨，所述柔性平台用于支撑和固定待研磨工件，并自动削弱修研过程中研磨工具的小幅度摆动对研磨精度的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 针对 高精度 立式 精密 研磨 装置 | ||
【主权项】：
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