[发明专利]一种连续式磁控溅射装置在审
| 申请号： | 202111223699.4 | 申请日： | 2021-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN113737146A | 公开（公告）日： | 2021-12-03 |
| 发明（设计）人： | 张松林;张斌 | 申请（专利权）人： | 成都超迈光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610012 四川省成都市龙*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种连续式磁控溅射装置，包括物料，还包括真空腔室、磁控溅射腔室、调节腔室和冷却腔室，所述真空腔室、磁控溅射腔室、调节腔室和冷却腔室依次排布，所述真空腔室与所述调节腔室连通；本发明中，保证磁控溅射腔室在与其他腔室连通后，依然是真空的状态，可以连续的对下一批次待加工物料进行加工，保证了连续加工的效率，大幅度的缩短了等待时间，更便于连续式的加工，便于使用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 连续 磁控溅射 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都超迈光电科技有限公司，未经成都超迈光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111223699.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
