[发明专利]一种靶场试验基线修正及标校的方法及装置在审

专利信息
申请号: 202111251731.X 申请日: 2021-10-25
公开(公告)号: CN114166240A 公开(公告)日: 2022-03-11
发明(设计)人: 王彦书;王胜锋;贾建华;袁志毅;李晶晶 申请(专利权)人: 河北汉光重工有限责任公司
主分类号: G01C25/00 分类号: G01C25/00
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 温子云;李爱英
地址: 056002 河北*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明提供一种靶场试验基线修正及标校的方法和装置,所述方法包括在控制系统中分别调平发射装置及光电跟踪仪;转动光电跟踪仪转台,瞄准发射装置的发射管调整发射装置架位,直至所述光电跟踪仪的光轴与发射装置的发射管同轴,对数据进行采样;基于采样数据,计算光电跟踪仪相对于发射装置的基线;基于采样数据,计算光电跟踪仪相对于发射装置的零位误差。该方法可以实现计算控制系统光电跟踪仪与发射装置之间的基线数据功能,可以实现控制系统光电跟踪仪与发射装置零位标校功能。能够消除控制系统设备间的安装误差,确保控制系统对移动目标进行精确跟踪,确保控制系统在靶场能够进行精度试验。
搜索关键词: 一种 靶场 试验 基线 修正 方法 装置
【主权项】:
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