[发明专利]研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法有效

专利信息
申请号: 202111254736.8 申请日: 2018-10-31
公开(公告)号: CN113913156B 公开(公告)日: 2022-06-24
发明(设计)人: 泷泽利雄 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: C09K3/14 分类号: C09K3/14;B24B1/00;B24B37/02;B24B37/04;G11B5/84
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 孟伟青;褚瑶杨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及研磨液、玻璃基板的制造方法以及磁盘的制造方法,在通过激光衍射/散射法对研磨液中包含的氧化铈求出的粒度分布中,将从小粒径侧起的累积颗粒体积达到全部颗粒体积的x[%]时的粒径设为Dx[μm]时,D5为1μm以下,D95与D5之差为3μm以上。
搜索关键词: 研磨 玻璃 制造 方法 以及 磁盘
【主权项】:
暂无信息
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