[发明专利]涂敷装置及涂敷方法在审
| 申请号： | 202111321190.3 | 申请日： | 2021-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN114653520A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 吉塚秀人;山本章仁;渡边翔 | 申请（专利权）人： | 株式会社埃纳科技 |
| 主分类号： | B05C1/02 | 分类号： | B05C1/02;B05C11/02 |
| 代理公司： | 上海百一领御专利代理事务所(普通合伙) 31243 | 代理人： | 甘章乖 |
| 地址： | 日本国大阪府和泉*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种涂敷装置，所述涂敷装置能够准确地进行控制使得涂敷在基板的包括端面的基板周向边缘部的膜形成液的上下面的涂敷宽度极其窄，并且能够确实地在基板周向边缘部形成均匀厚度的薄的涂膜；涂敷装置10是一边使基板2和涂敷单元20相对移动，一边在基板2的周向边缘部涂敷膜形成液的涂敷装置，涂敷单元20具备在基板2的至少周向边缘部端面涂敷膜形成液的涂敷部30以及将涂敷部30所涂敷的膜形成液在基板2的周向边缘部上下面上伸展为薄膜状的伸展部40。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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