[发明专利]一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法及工件在审

专利信息
申请号: 202111323410.6 申请日: 2021-11-08
公开(公告)号: CN113862769A 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 刘晗;叶敏恒;叶作彦;余宗洋;郝玉婷;王超;徐平 申请(专利权)人: 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所
主分类号: C25F3/20 分类号: C25F3/20;C25F7/00;B22F10/28;B22F10/62;B33Y80/00
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 梁田
地址: 621000*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种用于AlSi10Mg合金表面的电解抛光方法及工件,包括对AlSi10Mg合金样品表面进行除油预处理;电解抛光,电解抛光液为磷酸溶液,电解抛光体系为三电极体系,电解抛光温度为65~75℃,电解抛光时间为15~20min,电解抛光电位为0~4V;对抛光后的样品迅速进行水冲洗;AlSi10Mg合金为采用选择性激光熔融技术制备。以磷酸为电解抛光液,电解抛光电位采用小电位,大幅度改善选择性激光熔融AlSi10Mg合金的粗糙度及表面形貌,且大大降低了电解抛光过程的材料损耗。配方简单、使用安全,适合于复杂形状零件的加工。
搜索关键词: 一种 用于 alsi10mg 合金 表面 电解 抛光 方法 工件
【主权项】:
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