[发明专利]一种药物缓释可控的聚醚醚酮植入体及其制备方法有效
| 申请号： | 202111340473.2 | 申请日： | 2021-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN114191617B | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 闫春泽;王浩则;陈鹏;苏瑾;舒梓星;吴思琪;陈致远;史玉升 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学 |
| 主分类号： | A61L27/54 | 分类号： | A61L27/54;A61L27/56;A61L27/18;A61L27/50;A61L27/08;A61L27/10;A61L27/12;A61L27/02;A61L27/04;A61F2/44;A61F2/30 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人： | 许恒恒 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种药物缓释可控的聚醚醚酮植入体及其制备方法。所述植入体包括载药区和实体区，所述实体区包括第一聚醚醚酮基底，所述载药区包括第二聚醚醚酮基底、载药媒介和通过该载药媒介负载于第二聚醚醚酮基底上的药物或活性因子；所述第二聚醚醚酮基底具有小于等于10μm的互相连通的凹孔，所述第一聚醚醚酮基底的强度满足使所述植入体在使用期间保持原有结构；所述第一聚醚醚酮基底和所述第二聚醚醚酮基底通过激光选区烧结打印得到。利用不用的孔隙率对药物或活性因子的缓释速率和时间进行调控，解决了现有表面涂层载药技术涂层易脱落、缓释时间过快以及常规造孔技术孔隙率不可控、引入有害基团等的技术问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 药物 可控 聚醚醚酮 植入 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学，未经华中科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202111340473.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种地下结构的施工方法
- 下一篇：可塑性基底三维粒子电极及其制备方法
