[发明专利]聚焦环及包括聚焦环的基板处理装置在审
申请号: | 202111348658.8 | 申请日: | 2021-11-15 |
公开(公告)号: | CN114664624A | 公开(公告)日: | 2022-06-24 |
发明(设计)人: | 金真奕;李东穆;魏永勋;咸龙炫;郑泳敎 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 王茜;臧建明 |
地址: | 韩国忠清*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开聚焦环及包括聚焦环的基板处理装置。基板处理装置可包括:处理模块,其包括对基板执行所需工序的至少一个工程腔室;及转位模块,其从外部向所述处理模块内移送所述基板。所述至少一个工程腔室可包括:内部提供工程空间的外壳;配置在所述外壳内以支撑基板,具备包括多个环的聚焦环的支撑单元;向所述工程空间内供应工程气体的气体供应单元;以及在所述工程空间内从所述工程气体产生等离子体的等离子体生成单元。所述聚焦环可具有包括朝向所述基板向下方配置的多个阶梯部分的阶梯结构。本发明能够大幅提升所述聚焦环的寿命,能够分别大幅提升包括所述聚焦环的工程腔室及包括所述聚焦环的基板处理装置的寿命。 | ||
搜索关键词: | 聚焦 包括 处理 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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