[发明专利]集成电路版图设计方法、装置及设备有效
| 申请号： | 202111351811.2 | 申请日： | 2021-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN113792525B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 丁柯;丁仲;张崇茜 | 申请（专利权）人： | 北京芯愿景软件技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398;G06F111/20 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 赵秀芹 |
| 地址： | 100095 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种集成电路版图设计方法、装置及设备。该方法包括：获取集成电路的原始版图数据中的版图元素集合；从模型数据库中查找到与所述版图元素集合对应的目标版图元素集合；所述目标版图元素集合满足DRC校验要求；将所述原始版图数据中的所述版图元素集合替换为所述目标版图元素集合。根据本申请实施例，能够将原始版图数据中的版图元素集合进行替换调整，并且替换后不会产生新的DRC异常，从而提升DRC校验过程中修改调整的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 集成电路 版图 设计 方法 装置 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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