[发明专利]阵列基板、掩膜板、显示装置及阵列基板的制作方法

摘要

本申请提供的一种阵列基板、掩膜板、显示装置及阵列基板的制作方法，包括：衬底基板，所述衬底基板包括显示区和扇出区，所述扇出区设置有多条栅线，相邻所述栅线的间距为4.2μm至4.7μm。本申请通过将扇出区的栅线间距降低至4.2μm至4.7μm，从而将布线间距从5.5μm降低了1μm左右，相比之下降低了18％左右的间距距离。通过调整基板制作过程中的掩膜板，使扇出区的掩膜板从全透改变为半透，从而在完成光刻时，半透区域对应的金属层上还会有光刻胶保留，从而保护扇出区的金属层不会进行湿法刻蚀，从而降低了栅线的CDBias，从而降低了栅线间的间距，进而为实现更窄的边框提供了技术支持。