[发明专利]一种硅片生产用高温臭氧氧化装置

摘要

本发明公开了一种硅片生产用高温臭氧氧化装置，包括工作台和壳体，所述壳体上设置有进料口和出料口，所述工作台的上侧壁设置有用于对硅片进行输送的输送机构，且输送机构通过驱动机构进行驱动，所述壳体内设置有多组用于对硅片进行加热的加热机构和用于对硅片表面进行氧化的氧化机构。该种硅片生产用高温臭氧氧化装置，采用陶瓷滚动轴对硅片进行输送，具有更好的耐高温性能，同时，在灯腔组内设置多个内置流道，向内置流道内通入循环冷却水，从而对下灯腔和上灯腔进行降温处理，避免高温对输送机构造成损坏，并且，在陶瓷滚动轴和传动轴之间设置有密封圈，起到缓震效果，能够避免输送过程中震动造成的影响，保证其使用寿命和输送效率。