[发明专利]一种TiN与二氧化硅双层涂层的沉积方法及装置

摘要

一种TiN与二氧化硅双层涂层的沉积方法，包括以下步骤：S1：对样件进行预处理操作；S2：对经预处理操作后的样件通过CVD方式利用TiN原料气沉积TiN涂层；S3：对沉积TiN涂层后的样件进行正硅酸乙酯自分解反应通过MOCVD沉积方式沉积SiO2涂层；S4：对样件进行降温。一种TiN与二氧化硅双层涂层的沉积装置，包括CVD气体供应系统、MOCVD气体供应系统以及沉积系统；所述CVD气体供应系统与MOCVD气体供应系统均连接至沉积系统；所述沉积系统内进行TiN涂层的沉积与SiO2涂层的沉积，所述CVD气体供应系统在沉积系统内进行TiN涂层的沉积时为沉积系统提供TiN原料气，所述MOCVD气体供应系统在沉积系统内进行SiO2涂层的沉积时为沉积系统提供SiO2原料气。形成的涂层具有良好的断裂韧性和致密性，有效抑制结焦。